Вольфрамовый лист 40х1000х1500 мм ВА в Челябинске

Выбор листа ВА для термоизоляционных барьеров в вакуумных печах определяется его высокой температурой плавления, низким давлением паров и отличными отражательными свойствами для ИК-излучения. Это обеспечивает эффективную теплоизоляцию и минимизирует теплопотери.

Лист ВР-20 превосходно сохраняет свои свойства в атмосфере аргона при экстремальных температурах до 2800°С. Аргон является инертным газом, предотвращая окисление и химические реакции, что позволяет материалу сохранять свою прочность и стабильность структуры.

Вольфрамовые листы с зеркальной поверхностью необходимы для применений, требующих максимального термического отражения или минимальной эмиссии. Это актуально для тепловых экранов вакуумных печей, оптических систем или подложек для высокоточного осаждения тонких пленок, где важна гладкость.

Лист ВД обладает высокой устойчивостью к расплавленному индию при 250°С. Низкая взаимная растворимость вольфрама и индия обеспечивает минимальное взаимодействие и сохранение целостности вольфрамового листа в данной металлической среде.

Лист ВД толщиной 0.8 мм используется в медицинском оборудовании для эффективного экранирования. Высокая плотность и атомный номер вольфрама обеспечивают поглощение ионизирующего излучения, применяясь в рентгеновских аппаратах и системах лучевой терапии для защиты персонала и пациентов.

Избирательную коррозию вольфрамового листа могут вызвать горячие концентрированные окислительные кислоты (азотная, серная), галогены (хлор, фтор, йод) при повышенных температурах, а также расплавленные щелочи. Эти среды способствуют образованию растворимых или летучих соединений вольфрама.

В высокотехнологичном прототипировании вольфрамовый лист используется для создания функциональных элементов, требующих высокой прочности и стабильности при экстремальных температурах. Это могут быть микронагреватели для датчиков, прототипы компонентов термоядерных реакторов или сверхтонкие мембраны.